見た目が同じでも目的は違う
CI03
…それで、エッチング後のパターンの寸法の良し悪しを評価するの?
クミ
そこで、転写性を使おうと思うんだ
クミ
入力はマスク寸法でいいですよね?
フォルテ
エッチングってなんですか?
クミ
半導体の製造工程で、余計な部分を溶かす工程かな
クミ
レジストって膜で残したい部分にマスクをするんだ
フォルテ
それでマスクをしていない部分が溶けるってことですね
クミ
結果として、欲しい形が残るんだー
フォルテ
だとすれば、入力は欲しい形である、設計寸法じゃないのですか?
CI03
マスク寸法も設計寸法も、入力といえば入力なの
クミ
どっちが正しいのかな?
CI03
正しいかどうかというより、マスク寸法と設計寸法では目的が違うの
フォルテ
どちらも、ばらつき無く形を作ることが目的ではないのですか?
CI03
じゃぁ、マスクのパターンをそのまま転写しようとしている?
フォルテ
しています
クミ
してないかな
CI03
ほら、違うの(笑
フォルテ
あれ?(汗
クミ
あれれ?(汗
CI03
フォーちゃんは、なんでマスク寸法が入力だと思ったの?
フォルテ
マスクの形通りに転写されるのが理想じゃないのですか?
クミ
エッチングの仕組みはそう簡単じゃないんだよー
クミ
例えばマスクの隅の部分は光が回折するので、露光時にまっすぐに転写されないんだ
クミ
マスクパターン通りにできないから、マスク形状をいじって…
クミ
光の回折を考慮して角ができるようにマスクの形を調整するんだよ
CI03
…ということで、「マスク寸法通りに転写する」のが目的という場合
CI03
「マスク寸法がどうであれ、最終形状が良ければいい」というのが目的の場合
CI03
どういった技術開発をしたいかで、機能や目的が変わるの
クミ
違うんだね…
フォルテ
てっきり同じだと思っていたのですが…
CI03
ということで、機能どうこうより
CI03
まず目的を明確にしないとダメってことなの
フォルテ
ここは、やっぱマスク寸法通りに露光する技術を…
クミ
いやいや、最終形状を考えてマスク形状を変えて…
CI03
当分品質工学の出番はなさそうなの…
フォルテ
マスクの形どおりにできれば、後々楽ではないですか?
クミ
現実的にそれは無理だから、マスク形状のチューニングは必須かな
CI03
目的が決まったら声をかけて欲しいの(笑
(^^;
(^^;
何を理想として、どういった技術開発をしたいのか それを明確にすることが大事ってこと~
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